1月13日，由中国美术馆策划并主办的“未来诗篇，技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览与观众见面。

本次展览展出8位当代青年艺术家的创作实践，集中呈现他们将科技融入艺术的创作探索。展品涵盖装置、数字沉浸艺术等多种媒介形态，既有从传统山水精神中蜕变而出的数字意境，庄闲和游戏app也有直面人工智能技术的思辨。

据介绍，中国美术馆始终关注、引导科技与艺术的深度融合，此次展览不仅是一场“技术+艺术”的创新成果展示，更是一场关于未来艺术可能性的学术探讨。

展览由中国美术馆展览部柳淳风、李暨涵担任策展人，各部门通力协作。展览呈现在中国美术馆一层7号厅，展出至1月30日（周一闭馆）。

（光明日报全媒体记者于园媛）